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        Iet Circuits Devices & Systems

        Iet Circuits Devices & Systems
        期刊全稱:Iet Circuits Devices & Systems
        簡(jiǎn)稱:IET CIRC DEVICE SYST
        ISSN:1751-858X
        ESSN:1751-858X
        研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣
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        Iet Circuits Devices & Systems英文簡(jiǎn)介

        IET Circuits, Devices & Systems covers the following topics:

        Circuit theory and design, circuit analysis and simulation, computer aided design

        Filters (analogue and switched capacitor)

        Circuit implementations, cells and architectures for integration including VLSI

        Testability, fault tolerant design, minimisation of circuits and CAD for VLSI

        Novel or improved electronic devices for both traditional and emerging technologies including nanoelectronics and MEMs

        Device and process characterisation, device parameter extraction schemes

        Mathematics of circuits and systems theory

        Test and measurement techniques involving electronic circuits, circuits for industrial applications, sensors and transducers

        Iet Circuits Devices & Systems中文簡(jiǎn)介

        《Iet Circuits Devices & Systems》是一本由WILEY出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊,該刊創(chuàng)刊于2007年,刊期Bi-monthly,該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCI、SCIE收錄。在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科:工程技術(shù) 4區(qū),小類學(xué)科:工程:電子與電氣 4區(qū);在JCR(Journal Citation Reports)分區(qū)等級(jí)為Q4。該刊發(fā)文范圍涵蓋工程:電子與電氣等領(lǐng)域,旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外工程:電子與電氣工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)、技術(shù)革新等,促進(jìn)學(xué)術(shù)交流,鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為1.269,平均審稿速度較慢,6-12周。

        中科院分區(qū)最新升級(jí)版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新升級(jí)版)

        大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
        工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

        JCR分區(qū)(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021-2022年最新版)

        JCR分區(qū)等級(jí) JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
        Q4 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q4 1.269

        期刊指數(shù)

        影響因子 h-index Gold OA文章占比 研究類文章占比 OA開放訪問(wèn) 平均審稿速度
        1.269 45 23.31% 98.90% 開放 較慢,6-12周

        IF值(影響因子)趨勢(shì)圖

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